物理學報  1999, Vol. 48  Issue (5): 955-960

汪建華1, 袁潤章1, 鄔欽崇2, 任兆杏2
(1)武漢工業大學材料復合新技術國家重點實驗室,武漢 430070; (2)中國科學院等離子體物理研究所,合肥 230031
THE STUDY OF EPITAXIAL GROWTH ZnO THIN FILM ON A (0112) SAPPHIRE SUBSTRATE USING ECR PLASMA SPUTTERING METHOD
WANG JIAN-HUZ1, YUAN RUN-ZHANG1, WU QIN-CHONG2, REN ZHAO-XING2

摘要： 藍寶石上外延生長ZnO薄膜在表面波和聲光器件中有重要的應用．用微波電子回旋共振(ECR)等離子體濺射法在藍寶石(0112)晶面上外延生長了ZnO薄膜，膜無色透明，并且表面光滑，基片溫度為380℃，為探索沉積工藝參數對薄膜結構的影響，用XRD對不同基片溫度和沉積速率生長的ZnO薄膜進行了研究．

引用本文:   
汪建華,袁潤章,鄔欽崇 等 . 用微波ECR等離子體濺射法在藍寶石(0112)晶面上生長ZnO薄膜的研究. 物理學報, 1999, 48(5): 960. 
Cite this article:   
WANG JIAN-HUZ,YUAN RUN-ZHANG,WU QIN-CHONG et al. THE STUDY OF EPITAXIAL GROWTH ZnO THIN FILM ON A (0112) SAPPHIRE SUBSTRATE USING ECR PLASMA SPUTTERING METHOD. Acta Phys. Sin., 1999, 48(5): 955-960. 

溫馨提示：本站不提供資料文件下載，僅提供文件名稱查詢，如有疑問請聯系我們。