2010年3月，TICRA新發(fā)布了POS 5.3版本，比之前的POS 5.2，主要添加了以下兩方面新功能：
      • 支持MPI Linux cluster：POS的反射面優(yōu)化有時候比較耗時，新版本允許針對“optimise”命令采用MPI并行計算。以往優(yōu)化過程中，POS不斷比較剩余誤差和目標(biāo)后生成適當(dāng)?shù)男聟?shù)再次計算，直到最后得到最優(yōu)結(jié)果。在并行計算環(huán)境中，主機節(jié)點只需要確定生成新的計算參數(shù)，電磁場和電流的計算等是在并行節(jié)點中同時計算的。需要注意的是，該功能需要用戶自己配置Linux系統(tǒng)的MPI并行環(huán)境。

      • 命令行運行方式的license排隊機制：采用浮動license時，如果license用戶數(shù)達到上限，對于新提交的任務(wù)，原來版本會馬上拒絕，這就需要用戶在license空閑時候手動再提交一次。POS5.3 提供了license排隊機制，可以將新任務(wù)進行排隊，等license釋放時自動計算。
 
     2010年4月，TICRA新發(fā)布了GRASP9.7版本，比之前的GRASP9.6，主要添加了以下兩方面新功能：

      • 新版本加入準(zhǔn)光系統(tǒng)設(shè)計插件QUAST，該插件是在原來Frame Design Tool基礎(chǔ)上開發(fā)，擴展了諸如簡單透鏡、分波器(beam splitters)、Martin-Puplett干涉儀等功能，需要單獨的license支持。

      • GRASP 9.7增加了近場平面波展開功能，該功能對于一些應(yīng)用能夠起到加快仿真速度、提高精度作用。

2010年7月，TICRA新發(fā)布了CHAMP 2.1版本。比之前的CHAMP 2.0.4，主要添加了以下四方面新功能：

      • CHAMP 2.1改進了喇叭設(shè)計向?qū)ВF(xiàn)在能得到更精確的增益和照射錐削初始值，并且能選擇喇叭張角。

      • 簡化優(yōu)化設(shè)置，能更簡單有效的設(shè)置優(yōu)化目標(biāo)值。同時，增加了新優(yōu)化目標(biāo)：軸向增益和口徑效率。

      • CHAMP 2.1允許用戶輸出自定義軸向偏置距離的SWE參數(shù)，可以使得SWE參數(shù)的中心放在相位中心位置，并且自動導(dǎo)出到GRASP里面。

      • CHAMP的輸出結(jié)果能保存為和GRASP相同的格式。

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