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3G及LTE升級 加速發(fā)射器RFIC整合

2010-07-05 來源:ADI 字號:

隨著次世代移動通訊基礎架構設備由3G及長期演進(LTE)Advance升級,為設備與元件供應商帶來了許多的挑戰(zhàn)。針對全球性的部署,次世代無線電必須能夠在更多的運作頻率波段上,對更高的資料速率以更復雜的調(diào)變支援更廣的信號頻寬。有關雜訊、信號線性度、功率消耗及尺寸大小的性能都極為重要,而且要求也越來越高,因此元件供應商也被寄予厚望能為更高密度的應用降低成本與空間。
這點為無線射頻集成電路(RFIC)的設計廠商帶來更多的挑戰(zhàn),因為經(jīng)過整合后的元件,其性能必須相當于或優(yōu)于分離式方案。使用分離式元件的實現(xiàn)方案時,系統(tǒng)設計廠商可以選擇使用經(jīng)過最佳化的元件,并且采用不同的技術像是砷化鎵(GaAs)、矽雙極(Si Bipolar)或互補式金屬氧化物半導體(CMOS)等,為最佳化的性能進行設計(圖1)。但是這種選擇最佳化制程技術的彈性,對于想要在單一制程技術中提供更高整合度的RFIC設計廠商會帶來最大的挑戰(zhàn)。

圖1 適用于2G至LTE應用的簡化型基地臺發(fā)射器

在基地臺發(fā)射器當中,類比式I/Q調(diào)變器乃是決定發(fā)射信號路徑雜訊層以及線性度的主要RFIC元件,因此任何為了縮小尺寸、降低功率或成本而要求放寬性能都是不可接受的。 

BiCMOS制程可兩全其美  

幸好,矽鍺(SiGe)雙極互補式金屬氧化物半導體(BiCMOS)制程技術特別適合使用于較高整合度,而且又不會犧牲性能。這些制程通常用于多重臨界速度(Speed-breakdown)SiGe NPN電晶體,有時候也會用于具有一個或兩個(較常見)CMOS電晶體特征尺寸的互補式高性能PNP電晶體。在此基底會加上MIM(金屬-絕緣體-金屬)電容器、薄膜電阻,以及很重要的多重厚銅箔與鋁金屬涂布。這些特點讓設計廠商能夠在單一晶片中設置多個高性能功能區(qū)塊,進而實現(xiàn)強固的能力及縮小尺寸,并且維持極高水準的性能。 

在發(fā)射器電路板級設計上的幾個重要元素中,有一項就是針對不同的上升與下降頻率轉換級本地振蕩器(LO)的合成及分配。基地臺LO分配必須對印刷電路板中所有遠距離的角落都保持相位的一致性,而且也必須具有低帶內(nèi)與低寬頻雜訊,以及低總體寄生內(nèi)容。混頻器的性能只會與驅(qū)動用的LO相當,因此在總體發(fā)射器性能中,高品質(zhì)的LO是一項極為重要的元件。此外,非常小量的相位雜訊,或是LO信號中的雜散成分,有可能會將足夠的能量引導至類比信號路徑中,進而造成發(fā)射器無法符合主要的蜂巢式通訊標準如MC-GSM 、寬頻分碼多重存取(WCDMA)、LTE、全球微波存取互通介面(WiMAX)所設定的雜散輻射(Spurious Emissions)。這些標準所需的LO,范圍從大約500MHz到接近4GHz,代表的意義是對于LO分配的布局必須非常謹慎地處理。從LO產(chǎn)生一直到最后的終止端,走線的長度應該要越短越好,但是假如LO合成器必須饋送至數(shù)個不同元件,則往往難以實現(xiàn)。有一種解決方案是將共通的低頻參考信號饋送至靠近每一組所需LO的獨立鎖相回路(PLL)合成器中,但將會在印刷電路板(PCB)上占用顯著的面積。 

矽鍺技術提供高性能  

ADRF 670x整合式調(diào)變器系列將先進的分數(shù)N型PLL與整合式壓控振蕩器(VCO)加以整合,解決掉許多這類型的難題。透過矽鍺技術的使用,在正交調(diào)變器及具有VCO的混頻器上實現(xiàn)了技術領先的動態(tài)范圍,提供具有競爭力的性能,而且明顯地比外部VCO/PLL解決方案還要小。 VCO的運行是在上層的厚金屬層中,借以在晶片電感器內(nèi)建立high Q,作為電感電容槽的一部分。 VCO電容器乃是利用金屬氧化物半導體(MOS)可切換式MIM電容器所組成,這使得VCO可以在廣大的頻率范圍中以低相位雜訊切換頻率。 

每當PLL頻率被加以編程時,波段會自動地調(diào)整,借以提供獨立而且可靠的解析度。選擇波段的大小以確保作業(yè)在初始設定完成后,能夠于完整的溫度范圍中運作。厚金屬也被用來針對下一級的期間,將輸出balun(平衡/非平衡轉換器)與絕佳的回授損失予以整合。 ADRF 670x家族系列由四顆具有重疊性的成員所組成,能夠涵蓋從400M~3GHz的頻率范圍與波段。每組家族成員都是依據(jù)輸出blaun頻寬,在1dB和3dB帶通上加以設定的。 

ADRF 670x和ADRF 660X家族的分數(shù)N型PLL設計,很適合使用在低相位雜訊的3G與4G應用領域中。這些新的蜂巢式標準具有密集間隔的信號叢集,因而需要日益增加的較低LO整合式相位雜訊,以便維持完整的性能。傳統(tǒng)的PLL合成器設計會采用「整數(shù)N型」架構,其輸出頻率為一組整數(shù)乘以相位偵測器的頻率。為了要能夠在頻率上提供小步階尺寸,其整數(shù)的倍增系數(shù)必須很大。大量的LO相位雜訊會從參考路徑中產(chǎn)生,并且被PLL頻率倍增系數(shù)放大。這將會在PLL輸出上造成高帶內(nèi)雜訊。分數(shù)N型PLL能夠?qū)崿F(xiàn)小步階尺寸的輸出頻率,同時可以維持較低的總體頻率倍增,進而比整數(shù)N型PLL具有較低的相位雜訊放大(圖2)。

圖2 ADRF 670x整合式LO相位雜訊vs. LO頻率

相鄰通道功率比(ACPR)乃是一項用來判定有多少發(fā)射信號漏泄至相鄰頻率波段的測量。如WCDMA之類的3G標準,對于容許發(fā)射至波段外的功率量非常嚴格。針對ADRF 6702的ACPR測量如圖3所示。調(diào)變器提供高線性度的輸出功率與低雜訊,在-6dBm輸出下可以達成優(yōu)于-76dB的ACPR。這將有助于減少緊接于調(diào)變器后增益級的數(shù)量,并且在最終功率放大器級之前就將動態(tài)范圍最大化。

圖3 ADRF 6702的ACPR @ 2140MHz

ADRF 670X系列家族藉由將三組LDO電路予以整合,使運作能夠脫離5伏特的單一電源供應,進一步地將使用者應用裝置簡化,并且減少成本與電路板空間。

這些LDO是用來為VCO、電荷幫浦及PLL積分三角調(diào)變器提供經(jīng)過調(diào)整的電源,而+5伏特電源供應則直接使用在e IQ調(diào)變器上,借以將輸出功率最大化。 

在高線性度的應用裝置當中,ADL 670X可以利用其PLL在內(nèi)部合成一組LO,而其他元件則可以停用本身的PLL,并且使用來自于主要元件的共通LO。 

多重組合打造次世代平臺  

ADRF 670X家族乃是為了要實現(xiàn)最小化以及簡化與亞德諾(ADI)最新的發(fā)射用數(shù)字類比轉換器AD 9122和砷化鎵放大器的使用者介面所設計,后者若以一顆四分之一瓦高線性度放大器ADL 5320為例,則能夠驅(qū)動大于0dBm至最后PA級。這種結合三顆精巧IC的做法實現(xiàn)了主動式IC的內(nèi)容,很適合使用于所有的蜂巢式次世代多重載波無線電平臺。 

(本文作者Phillip Halford為亞德諾射頻產(chǎn)品行銷經(jīng)理、Ed Balboni為射頻設計經(jīng)理)

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